sem能给出几种像，如何分析sem图像

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　　　　如果能量和焦距的调整不好，就无法得到要求的分辨率和要求大小的图形，主要表现为图形的CD值超过了要求的范围。 3-4nm的分辨率尺度不显示几何特征，避免将不需要的人作为图像导入。 掩模上的图形在透镜另一侧的某个平面上成像。 我们称之为像平面( Image Plan。 只有像平面和遮光平面重叠( In Focus才能打印清晰的图形。

　　　　答( a(scanner为了控制集机、光、电为一体的高精密机械iverlay40nm，在曝光过程中，光掩模和Wafer的运动必须保持高同步性。 在250nm/秒扫描曝光时，两者的同步位置为10nm。 相当于时速1000公里/小时的两架波音747飞机的前后飞行，距离不到10微米。

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　　　　高能离子或中性原子轰击某一靶表面，将动量释放到几纳米范围内的原子中，轰击时部分靶原子获得足够的能量，切断与周围原子的结合并发生位移。 如果同时设置了计划、单元和关键词提供，点击提供(无论是否开启扩展模式)将参考最细粒度的——关键词提供，进行实际的点击提供。

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　　　　低电压操作---在反射率和二次电子产值为1之间的电压下操作。 对于钨丝扫描型电子显微镜，电子束的亮度在高电压下会下降几十倍，另外电子光学系统的像差也会增大，因此需要考虑扫描型电子显微镜的潜能。 光看文字很复杂，接下来，我将综合最近报价方式的变化，为大家带来报价方式的进化历程。 扫描电镜的成像原理与透射电镜大不相同，不使用透镜制作放大图像，而是像CCTV系统那样，逐点扫描制作图像。

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　　　　A普通纸由大量短纤维压制而成，摩擦和撕裂会产生大量微小的尘埃( particle。 进入cleanroom请携带专用的Cleanroom Paper。 A曝光中使用的光由Mercury Lamp (水银灯)产生，其波长为365nm，由于其波长较长，曝光完成后图案分辨率差，可以应用于下一个重要的水平。

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　　　　a Photo过程中一系列步骤的组合。 这包括Wafer的预处理、后处理、Coating (遮光)和Develop (调试)等过程。 oCPC 0阈值oCPC目标转换成本：与未变化的前0阈值相似，不同之处在于当前oCPC将一阶、二阶相关概念设为离线，且当前的0阈值没有显示严格的学习成功阈值，模型的数据积累很容易

　　　　a确认在RUN之前lot中有多少Wafer，并确认在RUN之后lot中的Wafer是否变少，如果变少，则进一步确认机台中是否有Reject记录。