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SEM为什么要真空,sem抽真空没抽好会怎么样
SEM )制样方便,制样周期短,可进行无损分析,且观察范围广,放大倍数大,立体感强,景深大,观察效果好。 在要求更小的分析需求和更高的精度的情况下,需要进行TEM分析,在需要得到样品的内部结构的情况下也需要选择TEM。
SEM的结构是用非常细的电子束扫描试料,在试料表面激发发射二次电子,与二次电子的非电子束入射角有多大程度的关系,也就是说与非试料的表面结构有关。 二次电子由检测体采集,在那里作为光信号通过闪烁器传输,通过光电倍增管和放大器作为电信号传输,控制荧光屏上电子束的强度,显示与电子束不同步的扫描图像。
要想从极细的钨针尖吸收电子,金属表面必须完全干净,没有外来材料的原子环分子只要在其表面有一个外来原子掉落到表面,电子的吸收就会降低,所以电场吸收电子枪需要保持超高真空度,避免原子在钨阴极表面堆积以前TEM作为重要的科研仪器,但由于目前半导体制造采用了各种现有技术,仪器逐渐缩小,TEM得到了更多的应用。
此次从德国引进的世界最先进的连续真空镀膜设备主要有太阳能吸热材料、高反射镜面、装饰性镀膜等。 其原理是,在高真空状态下加热喷镀的金属,加热到熔点以上时,会蒸发成为极细的粒子喷射到试样中,在试样表面形成金属膜,使试样电导通。
很久以前就有人研究过在通气环境下用电子光学原理观察样品形貌的成像原理,完整的ESEM技术创立于80年代,其中澳大利亚的Danilator和英国的Farley不Shah在成像机制和电镜技术上做了很少的工作由于超高真空设备非常昂贵,一般除非需要高分辨率的SEM,否则很少采用场发射电子枪。
首先(上)阳极主要通过改变电场吸收的抽运电压( extraction voltage )来控制针尖电场吸收的电流强度,而(二)下)阳极主要确定加速电压,将电子加速到所需能量。 真空金属涂层技术是在真空中蒸发或溅射金属、合金或化合物,使其凝固沉积在涂层物体上,称为真空涂层,目前工业领域应用较多的是真空沉积和溅射涂层两种涂层技术。
ESEM探测器就是利用这一原理增强信号的,也叫气体放大原理。 离子溅射与真空蒸镀膜相比,具有颗粒细、岛状结构少,只有同一厚度真空蒸镀膜的约1/5~1/10,膜层均匀的优点。 另外,需要获得体内信号、结构信号,便于制样,制样周期短,保存有需要无损分析的试样表面结构,无形状和污染,试样干燥且具有良好导电性的,宜使用SEM。
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