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sem成像方式有几种,sem的主要成像方式

站浪 调整文字大小:【      】 | 来源:站浪引爆流量第一站 | 作者:编辑部-骆文馨

| 2024年11月19日 01时21分50秒 阅读: | 分享至:

 

 

    sem成像方式有几种,sem的主要成像方式

  

    在中心部分也有含有第二相小粒子的韧窝,但由于小粒子的尺寸小,入射的电子束在其表面激发很多二次电子,因此该粒子大多较亮。 当使电子束入射并照射固体时,由于与样品中原子的相互作用,例如,如图12-1所示,二次电子、背散射电子、吸收电子(这三个信号可以用于成像)、特征性的x射线、阴电平的荧光)这两个信号用于成分的分析

    粉末()1)在样品台上直接导电粘接测试;2)乙醇分散制样:在离心管中采集少量试样,加入一定量的无水乙醇(或水),室温下超声5-10min,然后采用双组分制样方式进行制样测试。 块)直接在样品台上导电粘接测试,拍摄块/片截面时,需要明确截面的制作方法,一般可以提供剪刀剪裁和液氮脆化切割两种方式; 史上最完整、最精细的扫描电镜( sem操作说明)上),仅供个人观看,严禁商业使用,p主清洁手机内存。

    

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    样品的直径和厚度一般在几毫米到几厘米、几厘米之间,取决于样品性质和电镜样品室空间。 背散射电子( Backscattered Electrons入射电子在样品中散射后,从上面发射的电子。

    在SEM的电子显像管中,电子束同步扫描,荧光屏上各点的亮度根据样品激发的信号强度进行调制,因此样品上各点的状态不同,接收的信号也不同,反映样品各点状态的扫描电镜图像可见于显像管中

    由于入射电子的碰撞而从试样内放出的俄歇电子、二次电子的能量低,平均自由程短,因此只有表层下0.5~2nm厚度激发的俄歇电子、0.5~5nm厚度激发的二次电子有可能从表面放出。 选择低加速电压意味着使用低能电子束,其入射样本并受到散射的扩散区小,相互作用区接近表面,有利于表面形貌成像。 注意:这里所说的透射电子是指利用扫描透射操作方式对薄膜样品成像,进行微区成分分析时形成的透射电子。

    由于横向扩展的作用体积大小是背散射电子的成像单元,背反射电子的成像分辨率远低于二次电子像。 背散射电子像上的石墨条显示暗对比度,背散射电子像上的石墨条显示暗对比度,吸收电子像上显示亮对比度。 如图12-3(b所示,电子束被上偏转线圈偏转后,不通过下偏转线圈改变方向,直接通过物镜折射到入射点位置的扫描方式称为角光栅扫描或摆动扫描。

    因为束斑的直径是一个成像单元(像点的大小),所以这两个电子像的分辨率相当于电子束的直径。

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