sem怎么镀金，sem镀金机

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　　　　第一次压力在10Pa以下时按control gas键，第二次压力在7Pa以下时按start键开始喷金，喷金后关闭电源，从真空杯中取出样品。 对样品进行严格的EDS定量分析时，不能镀金属膜。 金属膜对x射线的吸收很强，对定量有很大的影响，所以在这种情况下选择蒸镀碳膜。

　　　　近年来，随着我国半导体、电子、通信、计算机等技术的飞速发展，表面镀层质量的控制越来越受到重视，特别是金属镀层的厚度和均匀性直接影响最终产品的工作性能、稳定性、可靠性和寿命。 一般的镀金在10万倍左右可以看到金粒子，但是镀铂可能需要放大20万倍才能看到铂粒子。 镀铬和铱需要放大近30万倍。

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　　　　记录为17~25C记录、在相对湿度65%下清扫房间灰尘记录、极限系统真空值510-6mBar记录、灯丝开启时的Gun vacuum510-9mBar记录、进行EHT=10kV测试后记录注意：请确保选择了Z move on vent。 这样，放气时样品台会自动下降。

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　　　　因此，镀膜尽量控制在10nm以下，如果镀上10nm的导电膜导电性也得不到改善，继续增加镀膜也没有意义。 一般电子束的金属导体是铜，为了防止氧化，需要在铜的表面镀锌，但镀锌层不能太厚。 必须尽可能薄且尽可能均匀地镀。 只要涂层膜不隐藏试样的真正细节，就可以进行涂层处理。 只要没有特别要求不能涂复，就不必为不涂复进行观察而烦恼。

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　　　　如果初始化时间不长，请在“Stage”面板中单击“Stage stop”以报告蔡司服务工程师。 电镀后金属膜发射二次电子代替样品，一般电镀的金、铂具有较高的二次电子激发率，电镀后可以提高信号强度和对比度，提高图像质量。 SEM测试常见难点解答2 :不导电或导电差的样品为什么要镀金，对形态有影响吗？

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　　　　在样品台上贴碳带，将样品贴在碳带上，用合适的力压下将样品用镊子放入JFC-1600离子溅射装置的真空杯中，加盖后按电源键，按mode键切换到手动模式，吹金

　　　　如图4-7所示，左为镀金处理后的PS球的SEM测量结果，右为TEM直接拍摄结果，可见SEM的测量结果约为195nm左右，而TEM的测量结果为185nm左右。 这是因为在PS球上镀了5nm金，直径扩大了10nm左右。 对焦调整亮度和对比度(可通过tab键设定粗调Coarse或微调Fine )；