sem衬度成像是什么，sem的主要成像方式

　　　　sem衬度成像是什么，sem的主要成像方式

　　　　ECCI技术已经广泛使用多年，形成了常规定向衬度成像的基础。 新闻扫描电镜SEM分辨率的影响因素_无损检测在做什么？ 在该深度范围内，由于入射电子已经向相当宽的侧方扩展，背散射电子像的分辨率比二次电子像低，一般为500~nm左右。 SEM扫描电镜通过二次电子信号成像观察样品的表面形貌，用极窄的电子束扫描样品，通过电子束与样品的相互作用产生各种效应，其中主要是样品的二次电子发射。

　　　　能量分辨率谱仪的最佳能量分辨率为149eV，谱仪的能量分辨率为0.5nm，相当于5-10eV，可见谱仪的分辨率比能量分辨率高一个数量级。 电子沟道衬度成像( ECCI )是在扫描电子显微镜( SEM )下通过电子沟道效应成像的技术。

　　　　根据透镜的基本性质可知，投光束和衍射光束在物镜的后焦点面分别形成投光斑和衍射光斑，从而在物镜的后焦点面形成试样结晶的电子衍射光谱，然后各光斑干涉并再次成像于物镜的像面纹理决定材料性能的典型例子有取向硅钢的Goss纹理控制、汽车深冲IF钢{111}纹理控制、饮料罐用AA3104板材的封边控制、高压阳极电容器铝箔的Cube纹理控制、超导带材的镍基

　　　　二次电子可以制作将样品表面放大的形态像。 这个像是样品被扫描时按时间顺序制作的，也可以通过按点拍摄图像的方法得到放大像。 对比度来自样品对入射电子的散射，电子束穿透样品后，其振幅和相位发生了变化。 因此，电镜图像的对比度可分为振幅对比度和相位对比度，这两种对比度对同一图像的形成有贡献，只是其中一种占向导。

　　　　其中，临界分辨率与倍率有关，人眼的分辨率约为0.2 mm，因此，为了放大后感觉物体的像清晰，需要使电子束的分辨率高于临界分辨率d0，电子束的入射角可以通过改变光圈的尺寸和工作距离来调整，小尺寸的光圈

　　　　原理：电镜下电子枪发射的电子在阳极加速电压的作用下，经聚焦透镜聚焦作用于样品，透射样品的电子束具有样品的结构和成分信息，经过物镜、中间镜和投影镜的聚焦、放大等过程，最终在荧光屏上描绘出图像或衍射图样扫描电镜是介于透射电镜和光学显微镜之间的微观形貌观察手段，可以直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。

　　　　虽然ECCI是一个较新的术语，但基于背散射电子( BSE )的定向衬度成像技术已经有几十年的发展历史。 半高法的图4-14(a(p100页)是半高法的定位图像。 在k(1和k ) 2未分离的情况下，如图4-14 )所示，设连接衍射峰的谷底的线pq、以高峰的顶点m为横轴的垂直线mn，交叉pq为n、mn为峰值的高度。