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sem测试样品处理的要求有哪些,SEM试样制备

站浪 调整文字大小:【      】 | 来源:站浪引爆流量第一站 | 作者:网络部-黄郁翔

| 2024年11月17日 16时20分33秒 阅读: | 分享至:

 

 

    sem测试样品处理的要求有哪些,SEM试样制备

  

    舀粉体常用的是碳支撑膜和小孔微栅,小孔微栅上面其实也有极薄的碳膜。 因此,镀膜尽量控制在10nm以下,如果镀上10nm的导电膜导电性也得不到改善,继续增加镀膜也没有意义。 另外,即使样品的整个体内具有良好的导电性,连接在表面的导电带也相当于一个并联电路,并联电路的总电阻总是小于任何支路的电阻,所以无论样品的导电性如何,都应该习惯性地将一个导电带连接在表面,进一步减小接触电阻,提高导电性

    为了尽量不破坏样品的晶体结构,氧化铝最好使用低密度模式。 粉体可以直接撒在样品架的双面碳导电胶上,用表面平整的物体,如玻璃板或导电胶带原纸面压住,用洗耳球吹掉粘结弱的粒子。 图4-6左。 电镀后金属膜发射二次电子代替样品,一般电镀的金、铂具有较高的二次电子激发率,电镀后可以提高信号强度和对比度,提高图像质量。

    高分辨率拍摄时,试样厚度宜控制在20 nm以下,直接捞取直径小于20 nm的粉体,若颗粒更大,包埋后离子宜变薄。 普通待观察的样品应尽可能具有良好的导电性,否则会引起荷电现象,电镜无法正常观察; 另外,样品需要良好的热传导性。 否则,冲击点位置温度升高,样品中低熔点成分挥发,形成辐照损伤,影响实际形态观察。

    目前的电镀设备一般能准确控制膜厚,但一般镀5nm薄膜就能充分改善导电性。 对于海绵、泡状等特殊结构的试样,表面不致密,即使镀上厚的导电层也很难形成通路。 通常选择镀Au膜,但对分辨率有较高要求时,可以选择镀铂Pt、铬Cr、铱Ir。 液体:用移液管吸取样品超声波后的悬浮液滴加到硅片或锡纸上,用自然风干/红外灯干燥,干燥后用导电粘接将硅片或锡纸粘接在样品台上进行测试;

    部分样品抗电子束能力差,成像时会引起成像部位破裂和局部漂移; 为了避免这种现象,降低加速电压和小电子束的流动,加厚喷涂金属膜,快速选定拍摄时要拍摄的部位,在短时间内对焦拍摄。 自由电子的积累在样品局部形成静电场,影响正常电子信息溢出,产生电荷效应,图像局部异常明亮,局部异常暗沉; 表面变平; 图像畸形; 图像漂移现象; 样品导电性差是造成这种现象的主要原因。

    对于热传导性差的试料,k较低,t有时会接近1000K,容易损伤试料。 如图4-7所示,左为镀金处理后的PS球的SEM测量结果,右为TEM直接拍摄结果,可见SEM的测量结果约为195nm左右,而TEM的测量结果为185nm左右。 这是因为在PS球上镀了5nm金,直径扩大了10nm左右。

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