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AFM和SEM有什么区别,afp和mom有什么区别
因此,SEM的分辨率较高,但只能在真空中观察导电性样品。 否则,电子在到达样品之前就会被介质吸收,无法达到观察的目的。 对于液体、只在特殊环境下存在的现象,SEM无法观察,也无法进行样品表面的微细加工和表面性能的测定。 AFM的基本结构与STM相似,原子间力的检测主要通过光杠杆技术实现。
目前的AFM制样方式是制作多个,硅片面积更大,用SEM或相差光学显微镜或反射光学显微镜找出长芯片所在的硅片,或硅片上长芯片所在的位置,拿到AFM上瞄准位置后TEM是晶格整体对电子的衍射,实际样品在一定程度上较厚,受到高次衍射和多次衍射光束的影响,如果样品厚度过大,在(几十nm处很难得到高分辨率图像。
AFM分析表明,相对于厚度0.8 nm的GO,微波还原产物GNS的厚度约为0.45 nm,接近GNS的理论厚度(约0.35 nm。 制作afm样品非常简单。工作区域的选择非常盲目,工作区域非常有限,只能在微米尺度范围内扫描,扫描宽样品表面非常困难。
SEM样品制备相对复杂的AFM样品制备非常简单,工作区域选择非常盲目,且工作区域非常有限,只能在微米尺度范围内扫描,扫描大样品表面非常困难。 关于AFM的原理在这里就不多谈了,目前常用的AFM工作模式主要有接触模式、分接模式以及非接触模式三种。
应用上比较,SEM扫描范围宽,为数mm mm,景深宽,但典型的AFM技术的最大扫描范围为100 m 100 m,景深为数微米。 来自样品表层(几纳米)的信号的二次电子)能量)很小,只有几十eV以下,是SEM检测的主要信号。 图像被称为二次电子图像,是正确反映样品表面形貌(凹凸)特征的有立体感的图像。
用于与溅射离子源结合时,AES能耐受大、小面积的深度截面。 TEM透射电镜样品应制成薄片,用于观察内镜结构,用于选区电子衍射等,成分分析。 另外,TEM的倍数远大于SEM,TEM多用于观察纳米级样品。 SEM :通过二次电子成像得到表面5-10 nm的表层形态像,最高分辨率现在为0.4 nm。
同时,AFM可以测量样品表面硬度、粗糙度、原力、电场力、温度分布和材料表面组成等样品物理特性,提供不同样品的成分信息。 对于这样平坦的样品,由于高度变化极小,SEM很难分辨这些特征。
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