SEM正面可以看出厚度么，sem样品厚度

　　　　SEM正面可以看出厚度么，sem样品厚度

　　　　本课题用JEOL牌JSM6700F型场发射扫描电镜试验的倍率2104观察分析了多层渐变w、Mo掺杂TiAlON光热薄膜的表面形貌和截面形貌，测量了其各亚层厚度分析了热氧化处理前后薄膜微观结构的变化，研究了薄膜高温图6示意性地显示了si、Ti这2种材料随电子入射能量和样品厚度变化为变量的布拉格衍射光斑。

　　　　由图8可知，镀锡层是40、60、80、100热处理l？ 之后，与常温相比，镀层的焊接性明显降低，另外热处理温度越高，镀层表面的氧化物越增加，焊接性降低得越快。 为了研究微量w、Mo掺杂与薄膜吸收带的关系，本课题制备了两组w、Mo含量较低的薄膜，分别采集IW6A和08AIMo6A和10A。

　　　　这是因为薄膜沉积过程中采用的PEM技术高度灵敏，其控制的气体总流量基本稳定。 25下电镀时间为10？ 在min下，镀槽中镀液浓度恒定，镀层厚度与电流密度的关系曲线如图4所示。 有了TKD的新技术，可以对纳米级材料进行精细分析。 基于同轴TKD技术，以往SEM难以进行的纳米结构的组织分析成为可能。

　　　　薄膜的表面形貌可用于观察热氧化处理前后薄膜表面的破坏表面是否平整致密。 由图可知，防反射层从堆积状态的190nm增加到220nm左右，红外反射层和吸收层的尺度变化不明显。 焊接接头冷却到较低温度(对钢来说为MS温度以下)时发生的焊接裂纹。 从w含量6 0at到w含量8 2at沉积态薄膜总膜厚的变化，70nm约为w含量6 0at薄膜总膜厚的7，表明w含量对沉积态薄膜厚度的影响很小。

　　　　结合热氧化处理后的物相光谱进行推测时，首先推测有可能在热氧化处理后单体Ti充分化合至完全消失到光谱中，显示衍射峰强度的降低或消失，根据与光谱不一致的情况，推测单体Ti来自红外反射层， 该薄膜结构设计经过合理的热氧化处理后，可以有效阻止薄膜内部过度氧化破坏膜结构，表明薄膜具有较高的高温稳定性。 表面形貌表明，不同w含量的薄膜经热氧化处理后，表面颗粒比沉积态细小致密。

　　　　EDS结果表明，在IW 0A情况下，薄膜中的w含量高于项目组前期研究莫匹隆薄膜中相应的Mo含量，可能是由于两种靶材材质的差异造成的。 电子束入射能量、样品厚度及原子序数对TKD对比度的影响1衍射对比度类型。 由图可知，不同w含量沉积态的WTiAlON光热薄膜红外反射层厚度为130nm左右，增透层厚度约为190nm，吸收层厚度有一定的变化，基本保持在800nm左右。